• 本聯盟以電子製造與品質技術領域研究為主軸

  • 配合技術理論導向與產業研發實務經驗

  • 設備操作與教學

  • 專業諮詢與訪視

  • 研究探討與提案規劃

  • 主、協辦技術研討會

  • 榮獲科技部產學績效優良獎

聯盟介紹

本聯盟以電子製造與品質技術領域研究為主軸,配合技術理論導向與產業研發實務經驗,垂直整合及橫向交流方式。

聯盟研究成果/資源

現有成果列表,包含已發表論文期刊、產學成合作成功案例、專利與技術,以及設備介紹。

聯盟活動

本聯盟活動照片 / 成果展現等。

三星於周四(10/18)表示,已完成所有製程技術的開發,已開始量產導入極紫外光(Extreme Ultraviolet,EUV)微影技術的7奈米低功耗(7-nanometer Low Power Plus,7LPP)晶片。三星越過了傳統的7奈米製程技術,向台積電下戰帖,挑戰台積電目前於7奈米製程市場的龍頭地位。

根據三星的說明,EUV使用13.5奈米波長的光線來曝光矽晶片,而傳統的氟化氬(ArF)氣體雷射浸沒技術則只能實現193奈米波長,此外,EUV能夠只使用單一光罩模組來建立矽晶片層,透過ArF最多需要4個光罩模組,相較之下,7LPP將能減少20%的光罩模組,節省客戶的時間與成本。

因此,與10奈米的FinFET製程相較,導入EUV技術的7LPP因有較少的層數及較大的產量,大幅降低了製程的複雜度,且最多可提昇40%的面積效率,因而可增加20%的效能或減少50%的功耗。

負責晶圓代工業務的三星副總裁Charlie Bae表示,他們相信7LPP將不只是行動及高效能運算的最佳選擇,也將替各種尖端應用帶來契機,從5G、人工智慧、大規模資料中心、IoT、汽車到網路等。三星亦計畫在2020年替客戶量產基於EUV的各種客製化晶片。

三星在製程上的跳躍是為了趕上全球晶圓代工龍頭台積電,台積電為全球最早進入7奈米晶片市場的半導體業者,在今年4月率先量產7奈米晶片,也是蘋果7奈米A12 Bionic晶片的獨家供應商。根據AnandTech的報導,台積電已於特定非關鍵層採用EUV微影技術,相關晶片被歸類為第二代的7奈米製程晶片(7+奈米),並在今年10月上旬試產(Tapeout)。

此外,台積電也已準備在明年4月進入採用完整EUV微影技術之5奈米製程的風險生產(Risk Production)階段,預計於2020年的第二季量產。

在全球第二大晶圓代工廠格羅方德(GlobalFoundries)於8月宣布將無限期擱置7奈米FinFET製程之後,讓7奈米晶片市場成為台積電、三星與英特爾三方競逐的局面,且目前看來英特爾也已被台積電及三星遠拋在後。

 

更多資訊(請點選)

 

Copyright©2014 國立臺北科技大學

10608 臺北市忠孝東路三段一號

先進製程品管實驗室

(宏裕科技研究大樓 933, 632, 534)

Tel: (886-2)2771-2171 #2331, 2384

E-mail: emqtntut@gmail.com